本周，全球领先的半导体设备制造商ASML公司发布了其最新一代极紫外线(EUV)光刻设备Twinscan NXE:3800E，该工具投影透镜拥有0.33的数值孔径。这款全新系统相比现有的Twinscan NXE:3600D机器在性能上有着显著的提升，旨在满足未来几年对于尖端技术芯片的制造需求，包括3nm、2nm等小尺寸节点。

ASML的Twinscan NXE:3800E代表了低数值孔径(EUV)光刻技术在性能和机械覆盖层匹配方面的巨大飞跃。新系统可以在30 mJ/cm^2的剂量下每小时处理超过195片晶圆，并通过吞吐量升级承诺进一步提升至220片晶圆每小时。此外，新设备提供了小于1.1纳米的机器覆盖层，进一步提升了晶圆对准精度。

ASML在一份声明中指出：“芯片制造商对速度有着迫切需求。第一台Twinscan NXE:3800E目前正在一家芯片工厂安装。凭借其新的晶圆阶段，该系统将为制造先进芯片提供领先的生产力。我们致力于将光刻技术推向新的极限。”

Twinscan NXE:3800E的增强性能将提高其在为逻辑制造商生产4nm/5nm和3nm级工艺技术芯片时的经济效率。这一改进有望显著缓解EUV技术的主要缺点，从而实现更高效和更具成本效益的芯片生产。这将使得芯片设计师更容易获得依赖EUV的工艺技术，而不会因为成本问题而受到限制。

然而，像NXE:3800E这样的光刻工具复杂且功能强大，每台的价格约为1.8亿美元。这意味着降低这些工具的成本还需要一定的时间。但对于ASML的客户，包括一些重要的逻辑和内存制造公司，NXE:3800E提供了一个有效的路径，以提高他们尖端芯片的生产能力。这对于这些公司来说至关重要，因为他们正在努力满足全球对半导体日益增长的需求，扩大生产能力，并保持芯片制造的经济效益。引入更先进、更高效的EUV扫描仪，如NXE:3800E，对于实现这些目标至关重要。

未来展望，ASML并未止步于现有的成就，计划进一步创新推出Twinscan NXE:4000F，这是另一代低数值孔径(EUV)扫描仪，预计将于2026年左右发布。尽管即将推出高数值孔径的光刻工具，ASML仍致力于推动低数值孔径(EUV)制造技术的不断发展。

*博客内容为网友个人发布，仅代表博主个人观点，如有侵权请联系工作人员删除。